中國人學(xué)生?研究者向けへのビザ発給數(shù)、過去最高を記録―アメリカ

2007年11月16日、アメリカ國務(wù)省によると、在中國アメリカ大使館での中國人學(xué)生?研究者に対するビザ発行數(shù)が大幅に増加していることが明らかとなった。米華字紙『僑報』が伝えた。

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2006年、在中國のアメリカ大使館?領(lǐng)事館が発行したビザは3萬6805件、申請されたビザの認(rèn)可率は85％だった。16日、國務(wù)院は學(xué)生?學(xué)者向けの07年度ビザ発行數(shù)が65萬枚を突破、史上最高を記録したと発表した。認(rèn)可率もさらに高まり87％に達(dá)した。

2001年の“911事件”以降、アメリカのビザ発給基準(zhǔn)が厳格化され、ビザ発行數(shù)も落ち込みを見せていた。また、アメリカの大學(xué)に合格しても新學(xué)期が始まるまでにビザが発給されず授業(yè)に間に合わないなど、発給厳格化の弊害も問題となっていた。今年のビザ発給數(shù)が911事件前を超えたことにより、アメリカ留學(xué)人気がさらに高まりそうだ。（翻訳?編集/KT）