2011年2月5日、香港誌?亜州週刊によると、米國に留學(xué)する日本人留學(xué)生はピーク時のほぼ半數(shù)にまで減少したという。ノーベル化學(xué)賞受賞者?根岸英一氏はこのままでは日本の科學(xué)力は二流になると危機感をあらわにした。5日、中國新聞網(wǎng)が伝えた。

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米名門大學(xué)?ハーバード大學(xué)に在席している日本人留學(xué)生は1999年には151人を數(shù)えた。それが現(xiàn)在では5人しかいない。2010年秋時點で米國に留學(xué)している日本人留學(xué)生の數(shù)は2萬4000人。前年比35％と大きく減少した。ピーク時の4萬7000人と比べるとほぼ半減した計算となる。また海外で研修している日本の大學(xué)?研究機関スタッフも3739人と2000年のピーク時7374人からほぼ半減した。

2010年ノーベル化學(xué)賞受賞者となった根岸英一氏は、「日本の若者が海外留學(xué)する勇気を失えば、日本の研究水準が下降するばかりか、技術(shù)主導(dǎo)の日本製造業(yè)にとっても大きなリスクになる」と懸念を表明した。（翻訳?編集/KT）