日本の半導(dǎo)體産業(yè)、次の突破口は―中國メディア

Record China    2022年11月10日(木) 15時0分

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8日、騰訊網(wǎng)に、日本の半導(dǎo)體産業(yè)が次の突破口として最先端の2ナノメートル半導(dǎo)體製造技術(shù)開発に乗り出しているとする文章を掲載した。

2022年11月8日、騰訊網(wǎng)に、日本の半導(dǎo)體産業(yè)が次の突破口として最先端の2ナノメートル半導(dǎo)體製造技術(shù)開発に乗り出しているとする文章を掲載した。

文章はまず、今年に入って日本と米國が共同で2ナノプロセス技術(shù)を用いた半導(dǎo)體の開発と生産を行うと発表したことを紹介。外部からが疑問の聲が出たものの、日本政府はこのプロジェクトに本気を見せており、今年度の第2次補(bǔ)正予算案で3500萬円を捻出して米國との共同研究センターを建設(shè)するほか、先進(jìn)的な半導(dǎo)體チップ生産拠點の誘致に4500億円、シリコンウエハーや炭化ケイ素など半導(dǎo)體製造に必要な材料の確保に3700億円を確保する計畫を示したと伝え、年末にも共同研究センターを立ち上げて2020年代後半に2ナノ製品の量産體制構(gòu)築を目指すとした。

その上で、日本の半導(dǎo)體産業(yè)が1970年代の成長期、80?90年代の最盛期を経て、今世紀(jì)に入って衰退していった経緯を説明し、日本政府が現(xiàn)在自國の半導(dǎo)體産業(yè)再興、世界的な競爭力獲得に向けて改めて努力していると伝えた。そして、今年5月には內(nèi)閣が「経済安全保障推進(jìn)法」に基づき半導(dǎo)體を「特定重要物資」に指定し、條件を満たす民間企業(yè)に補(bǔ)助金や低利率での融資といった助成を行い、半導(dǎo)體製造に必要な材料の生産を促進(jìn)する方針を打ち出したと紹介した。また、日本の半導(dǎo)體メーカー?キオクシアのほか、ウエスタン?デジタル、マイクロン?テクノロジー、TSMCといった海外の大手半導(dǎo)體メーカーによる日本國內(nèi)での工場建設(shè)もサポートしていると伝えた。

文章は、日本政府が半導(dǎo)體産業(yè)へのサポートを拡大している理由について、半導(dǎo)體が持つ経済の安全保障に対する重要性のほか、歴史的な円安が海外からの投資を呼び込むチャンスと見ているためだとしている。(翻訳?編集/川尻

※記事中の中國をはじめとする海外メディアの報道部分、およびネットユーザーの投稿部分は、各現(xiàn)地メディアあるいは投稿者個人の見解であり、RecordChinaの立場を代表するものではありません。

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